Plasmabeschichtung: Unterschied zwischen den Versionen

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Unter '''Plasmabeschichtung''' bezeichnet man zusammenfassend alle [[Plasma (Physik)|plasmagestützten]] Produktionsverfahren, bei denen Werkstücke aller Art mit [[Dünne Schicht|dünnen Schichten]] aus unterschiedlicher Materialien überzogen werden. Dazu zählen:<ref>Monika Kaßmann: ''Grundlagen der Verpackung.'' Beuth Verlag, 2014, ISBN 978-3-410-24192-8, S.&nbsp;127 ({{Google Buch|BuchID=f-AIAwAAQBAJ|Seite=127}}).</ref>
Unter '''Plasmabeschichtung''' bezeichnet man zusammenfassend alle [[Plasma (Physik)|plasmagestützten]] Produktionsverfahren, bei denen Werkstücke aller Art mit [[Dünne Schicht|dünnen Schichten]] aus unterschiedlichen Materialien überzogen werden. Dazu zählen:<ref>Monika Kaßmann: ''Grundlagen der Verpackung.'' Beuth Verlag, 2014, ISBN 978-3-410-24192-8, S.&nbsp;127 ({{Google Buch|BuchID=f-AIAwAAQBAJ|Seite=127}}).</ref>
* plasmagestützte [[physikalische Gasphasenabscheidung]]sverfahren (Plasma-PVD), wie das plasmaunterstützte [[Magnetronsputtern]],
* plasmagestützte [[physikalische Gasphasenabscheidung]]sverfahren (Plasma-PVD), wie das plasmaunterstützte [[Magnetronsputtern]],
* plasmagestützte [[chemische Gasphasenabscheidung]]sverfahren (Plasma-CVD), wie [[PECVD]] oder [[PACVD]],
* plasmagestützte [[chemische Gasphasenabscheidung]]sverfahren (Plasma-CVD), wie [[PECVD]] oder [[PACVD]],
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Eine weitere Klassifizierung kann sowohl über den Aggregatzustandes der Ausgangsmaterialien als auch über die Art der Plasmagenerierung (z.&nbsp;B. induktiv gekoppelten Plasma, [[ICP]]) erfolgen.
Eine weitere Klassifizierung kann sowohl über den Aggregatzustandes der Ausgangsmaterialien als auch über die Art der Plasmagenerierung (z.&nbsp;B. induktiv gekoppelten Plasma, [[ICP]]) erfolgen.


Die abgeschiedenen Schichten finden in vielen Gebieten Einsatz, beispielsweise [[Optik]] (Antireflexionsschichten), Produktveredlung ([[Titannitrid]] als Goldersatz), [[Verschleiß]]schutz, [[Elektronik]], [[Polytetrafluorethylen#Antihaft-Beschichtungen|Antihaftbeschichtung]] oder der [[Verpackungstechnik]] (Siliziumdioxidschichten als Innenbeschichtung von [[PET-Flasche]]n).
Die abgeschiedenen Schichten finden in vielen Gebieten Einsatz, beispielsweise [[Optik]] (Antireflexionsschichten), Produktveredlung ([[Titannitrid]] als Goldersatz), [[Verschleiß]]schutz, [[Elektronik]], [[Polytetrafluorethylen#Antihaft-Beschichtungen bei Konsumgütern|Antihaftbeschichtung]] oder der [[Verpackungstechnik]] (Siliziumdioxidschichten als Innenbeschichtung von [[PET-Flasche]]n).


== Einzelnachweise ==
== Einzelnachweise ==
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[[Kategorie:Beschichtungsverfahren]]
[[Kategorie:Beschichtungsverfahren]]
[[Kategorie:Plasmaphysik]]
[[Kategorie:Verschleißschutzverfahren]]

Aktuelle Version vom 12. August 2020, 12:44 Uhr

Unter Plasmabeschichtung bezeichnet man zusammenfassend alle plasmagestützten Produktionsverfahren, bei denen Werkstücke aller Art mit dünnen Schichten aus unterschiedlichen Materialien überzogen werden. Dazu zählen:[1]

  • plasmagestützte physikalische Gasphasenabscheidungsverfahren (Plasma-PVD), wie das plasmaunterstützte Magnetronsputtern,
  • plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidungsverfahren (Plasma-CVD), wie PECVD oder PACVD,
  • Plasmawärmebehandlung,
  • Plasmapolymerisation und
  • Plasma- und Ionenstrahlätzen.

Eine weitere Klassifizierung kann sowohl über den Aggregatzustandes der Ausgangsmaterialien als auch über die Art der Plasmagenerierung (z. B. induktiv gekoppelten Plasma, ICP) erfolgen.

Die abgeschiedenen Schichten finden in vielen Gebieten Einsatz, beispielsweise Optik (Antireflexionsschichten), Produktveredlung (Titannitrid als Goldersatz), Verschleißschutz, Elektronik, Antihaftbeschichtung oder der Verpackungstechnik (Siliziumdioxidschichten als Innenbeschichtung von PET-Flaschen).

Einzelnachweise

  1. Monika Kaßmann: Grundlagen der Verpackung. Beuth Verlag, 2014, ISBN 978-3-410-24192-8, S. 127 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).

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