Datei:Leiterbahn ausfallort elektromigration.jpg
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Leiterbahn_ausfallort_elektromigration.jpg (512 × 512 Pixel, Dateigröße: 65 KB, MIME-Typ: image/jpeg)
| Beschreibung |
Deutsch: Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Plasmaätzen (RIE) und w:de:Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das bestmögliche Resultat zu erlangen.
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| Quelle | Mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen |
| Urheber | Patrick-Emil Zörner |
| Andere Versionen | keine bekannt! |
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- Image contributor(s): Paddy
- 2004-03-03T00:01:48Z UTC Paddy 512x512 (66389 bytes)
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|---|---|---|---|---|---|
| aktuell | 17:24, 6. Mär. 2007 | | 512 × 512 (65 KB) | wikimediacommons>CommonismNow | {{Information| |Description=Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Reactive Ion Etching (RIE) und [[w:de:Fluorwasserst |
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